光刻、刻蝕、化學氣相沉積（CVD）等工藝中需要高純度（dù）真（zhēn）空環境。
提供穩（wěn）定的真空條件以支持（chí）芯片製造的高精度要求。

高能物理： 用於粒子加速器和探（tàn）測器中的真空係統（tǒng）。
表麵（miàn）分析： 適用於掃描電子顯微鏡（SEM）、透射電子顯微鏡（TEM）等（děng）設備。
質譜分析： 保障分析設備的高真空環（huán）境。

衛（wèi）星模擬： 在（zài）真空環境中模擬太空條件。
空間技術測試（shì）： 用於測試航天器部件的真空適應性。

在醫療器械生產中提供無汙染的真空環境，例如磁共振成像（MRI）設備。
支持生物樣品（pǐn）的真空冷凍幹燥等工藝。

鍍膜技術： 包括（kuò）光學鍍膜、裝飾鍍膜和功能性薄膜的生產。
顯示麵板： OLED和LCD顯（xiǎn）示器的真空蒸鍍工藝。

核聚變研究： 提供托卡馬克反（fǎn）應堆或慣性約束核聚變裝置的高（gāo）真空條件。
太（tài）陽能技術： 支持高效薄膜光伏（fú）電池製造（zào）。

垃（lā）圾焚燒尾氣分析： 檢測環境汙染物的高真空采樣。
納（nà）米技術： 為新材料研究和（hé）生產提供超高真空環（huán）境。